陶瓷溅射靶材 合金溅射靶材
Ceramic sputtering target
金源新材采用高纯化合物粉末为原料，通过真空热压烧结法及热等静压等工艺加工成型，靶材纯度高，相对密度可达90-99%，另外金源新材可以提供陶瓷靶材的绑定服务。
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陶瓷及合金溅射靶材
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名称
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分子式
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纯度
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产品形态
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氧化铝
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Al2O3
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99.99%
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靶材
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氧化镁
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MgO
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99.99%
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靶材
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氧化硅
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SiO2
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99.99%
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靶材
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氧化锌
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ZnO
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99.99%
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靶材
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二氧化钛
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TiO2
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99.99%
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靶材
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二氧化铪
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HfO2
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99.99%
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靶材
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二氧化锡
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SnO2
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99.99%
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靶材
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三氧化钨
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WO3
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99.99%
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靶材
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氧化铈
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CeO2
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99.99%
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靶材
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氧化铟锡
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ITO
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99.99%
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靶材
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氧化锌铝
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AZO
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99.99%
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靶材
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氧化铟镓锌
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IGZO
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99.99%
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靶材
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氧化镓
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Ga2O3
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99.99%
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靶材
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五氧化二铌
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Nb2O5
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99.99%
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靶材
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五氧化二钒
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V2O5
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99.99%
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靶材
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硫化锌
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ZnS
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99.99%
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靶材
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硫化镉
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CdS
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99.99%
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靶材
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硒化镉
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CdSe
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99.99%
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靶材
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硫化钼
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MoS2
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99.99%
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靶材
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氟化镁
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MgF2
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99.99%
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靶材
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氮化硅
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Si3N4
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99.99%
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靶材
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氮化铝
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AlN
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99.99%
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靶材
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碳化硅
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SiC
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99.99%
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靶材
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铌酸锂
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LiNbO3
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99.99%
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靶材
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钴酸镧
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LaCoO3
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99.99%
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靶材
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钛酸钡
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BaTiO3
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99.99%
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靶材
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钛酸锶
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SrTiO3
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99.99%
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靶材
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铜镓合金
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Cu-Ga
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99.99%
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靶材
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硅铝合金
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Si-Al
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99.99%
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靶材
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