陶瓷溅射靶材 合金溅射靶材
Ceramic sputtering target
金源新材采用高纯化合物粉末为原料,通过真空热压烧结法及热等静压等工艺加工成型,靶材纯度高,相对密度可达90-99%,另外金源新材可以提供陶瓷靶材的绑定服务。
陶瓷及合金溅射靶材
|
名称
|
分子式
|
纯度
|
产品形态
|
氧化铝
|
Al2O3
|
99.99%
|
靶材
|
氧化镁
|
MgO
|
99.99%
|
靶材
|
氧化硅
|
SiO2
|
99.99%
|
靶材
|
氧化锌
|
ZnO
|
99.99%
|
靶材
|
二氧化钛
|
TiO2
|
99.99%
|
靶材
|
二氧化铪
|
HfO2
|
99.99%
|
靶材
|
二氧化锡
|
SnO2
|
99.99%
|
靶材
|
三氧化钨
|
WO3
|
99.99%
|
靶材
|
氧化铈
|
CeO2
|
99.99%
|
靶材
|
氧化铟锡
|
ITO
|
99.99%
|
靶材
|
氧化锌铝
|
AZO
|
99.99%
|
靶材
|
氧化铟镓锌
|
IGZO
|
99.99%
|
靶材
|
氧化镓
|
Ga2O3
|
99.99%
|
靶材
|
五氧化二铌
|
Nb2O5
|
99.99%
|
靶材
|
五氧化二钒
|
V2O5
|
99.99%
|
靶材
|
硫化锌
|
ZnS
|
99.99%
|
靶材
|
硫化镉
|
CdS
|
99.99%
|
靶材
|
硒化镉
|
CdSe
|
99.99%
|
靶材
|
硫化钼
|
MoS2
|
99.99%
|
靶材
|
氟化镁
|
MgF2
|
99.99%
|
靶材
|
氮化硅
|
Si3N4
|
99.99%
|
靶材
|
氮化铝
|
AlN
|
99.99%
|
靶材
|
碳化硅
|
SiC
|
99.99%
|
靶材
|
铌酸锂
|
LiNbO3
|
99.99%
|
靶材
|
钴酸镧
|
LaCoO3
|
99.99%
|
靶材
|
钛酸钡
|
BaTiO3
|
99.99%
|
靶材
|
钛酸锶
|
SrTiO3
|
99.99%
|
靶材
|
铜镓合金
|
Cu-Ga
|
99.99%
|
靶材
|
硅铝合金
|
Si-Al
|
99.99%
|
靶材
|
|