钽靶材，由高纯度钽粉经粉末冶金制备而成。钽靶材适用于工业级镀膜，实验或研究级别用靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。（同领域使用相关产品铝颗粒、铬颗粒、ITO圆片、键合金丝等产品可参见“半导体专用材料”）
1，适用溅射设备品牌
适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
适用设备品牌：
国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2，常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm,2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
3，产品详细价格
| 产品名称 |
规格型号 |
包装 |
单价 |
交货期 |
备注 |
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Ta 钽 靶材
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99.95% 50.8*3mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 60*3.175mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 60*6.35mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 76.2*3mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 76.2*5mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 101.6*3mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 101.6*4mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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| 99.95% 101.6*6mm |
片 |
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5-7个工作日 |
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更多规格、更多型号产品，可咨询客服电话010-56073481；QQ2380702353。 |
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