北京石久高研金属材料有限公司

北京石久高研金属材料有限公司（简称石久高研）公司成立于2005年，是经北京市科学技术委员会确认的高新技术企业。地理位置优越，交通便利。 自公司成立以来受到 有色金属研究总院、中国科学院、清华大学等科研院校的大力支持，并保持着长期稳定的合作关系。

    石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司拥有一流的镀膜材料领域的专业人才，具有雄厚的研发、生产实力。随着近年来高科技领域内薄膜的兴起和蓬勃发展，特别是微电子与光电子产业迅速发展，对镀膜材料的要求也达到了一个新的高度，公司密切关注国内外镀膜及镀膜材料的发展方向，为相关行业提供先进、优质的镀膜材料。 

    公司是靶材、合金靶材、金属靶材、陶瓷靶材、贵金属、氧化物镀膜材料、稀土氟化物镀膜材料、低温超导陶瓷、碲化镉靶、硫化镉靶、等产品专业生产加工的公司，拥有完整、科学的质量管理体系。

    展望未来，与时俱进。我们将始终坚持“品质就是生命，信誉就是效益”的经营理念，凭借强大的科研实力和精良的制造设备 ，以及对客户高度的责任心 ，相信明辰必将成为行业的领跑者，与广大客户携手共进，合作双赢，一起迎接明天的辉煌。

    公司供应真空溅射靶材：金属靶材：钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、碳靶C、钒靶V、锑靶Sb、铟靶In、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、锆靶Zr、铬靶Cr、不锈钢靶材S-S、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge等……

稀土金属靶：钇靶Y、镝靶Dy、钬靶Ho、铒靶Er、铥靶Tm、镧靶La、铈靶Ce、镨靶Pr、钕靶Nd、钐靶Sm、铕靶Eu、钆靶Gb、铽靶Tb、镱靶Yb、镥靶Lu等...

稀土陶瓷靶：氧化铒Er2O3靶、氧化铥靶Tm2O3、氧化钬靶Ho2O3、氧化铕靶Eu2O3、氧化镧靶La2O3、氧化铈靶CeO2、氧化镨靶Pr6O11、氧化钕Nd2O3、氧化钐靶Sm2O3、氧化钕靶Nd2O3….

合金靶材：铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、 钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等……

陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2，三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、五氧化二钽靶Ta2O5，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化锌靶ZnO、氧化锆靶ZrO、氧化镁靶MgO， ITO靶In2O3+SnO2、单晶硅靶Sc-Si、多晶硅靶.Ac-Si、氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、氟化锂靶LiF、氟化钡靶BaF3，碳化硼靶B4C，氮化硼靶B4N、碳化硅靶SiC，硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、硒化锌靶ZnSe、砷化镓靶、磷化镓靶、锰酸锂靶，镍钴酸锂靶，钽酸锂靶，铌酸锂靶，氧化锌镓靶，氧化锌硼靶等…  

纯度：《99.9%—99.999%》根据客户要求加工成各种规格尺寸的靶材。

光学镀膜材料

氧化物：一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化钛TiO、二氧化钛TiO2、三氧化二钛Ti2O2、五氧化三钛Ti2O5、二氧化锆ZrO2、二氧化铪Hf02、二氧化铈CeO2、二钛酸镨Pr(TiO2)2、三氧化钨WO2、五氧化二钽Ta2O5、五氧化二铌Nb2O5、三氧化二钪Sc2O3、三氧化二铝Al2O2、三氧化二铟In2O3、氧化镱、氧化锌ZnO、氧化镁MgO、氧化钆Gd2O2、氧化钐Sm2O3、氧化钕Nd2O3、氧化钙CaO、氧化镨Pr6O11、氧化铋Bi2O3、氧化铬Cr2O3、氧化镍NiO、氧化铜CuO、氧化铁Fe2O3、氧化钒V2O5等…

氟化物：氟化镁MgF2、氟化钙CaF2

真空镀膜材料 

（镀制：复合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，气敏传感器膜，高温介质膜，光学膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光膜膜） 

高品质真空镀膜材料（4N-5N）： 

1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化钛靶材，TiO2靶材,二氧化锆靶材，ZrO2靶材,二氧化铪靶材，HfO2靶材,一氧化钛靶材，TiO靶材,五氧化三钛靶材，Ti3O5靶材，五氧化二铌靶材，Nb2O5靶材，五氧化二钽，Ta2O5靶材,氧化钇靶材，Y2O3靶材等高纯氧化物镀膜材料。 

2.氟化物：氟化钕靶材，NbF3靶材,氟化钡靶材，BaF2靶材，氟化铈靶材，CeF3靶材，氟化镁靶材，MgF2靶材，氟化镧靶材，LaF3靶材，氟化钇靶材YF3靶材，氟化镱靶材，YbF3靶材，氟化铒靶材，ErF3靶材等高纯氟化物。 

3.其它化合物：硫化锌靶材，ZnS靶材，硒化锌靶材，ZnSe靶材，氮化钛靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材

真空镀膜材料。 

4.金属镀膜材料：高纯铝靶材，Al靶材，高纯铜靶材，Cu靶材，高纯钛靶材，Ti靶材，高纯硅靶材，Si靶材，高纯金靶材，Au靶材，高纯银靶材，Ag靶材，高纯铟靶材，In靶材，高纯镁靶材，Mg靶材，高纯锌靶材，Zn靶材，高纯铂靶材，Pt靶材，高纯锗靶材，Ge靶材，高纯镍靶材，Ni靶材,高纯金靶材，Au靶材，金锗合金靶材，AuGe靶材，金镍合金靶材，AuNi靶材，镍铬合金靶材，NiCr靶材，钛铝合金靶材，TiAl靶材，铜铟镓合金靶材，CuInGa靶材，铜铟镓硒合金靶材，CuInGaSe靶材，锌铝合金靶材，ZnAl靶材，铝硅合 

金靶材，AlSi靶材等金属镀膜材料。