| 高级搜索 | 会员中心 | 发布信息 |
中国靶材行业信息平台
站内搜索: 高级搜索
合作商 合作商 合作商
您当前的位置:首页 > 技术交流

溅射靶材

时间:2013-12-24 20:11:45  

溅射原理:
  对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
  溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。 以pld为例,因素主要有: 靶材与基片的晶格匹配程度 镀膜氛围(低压气体氛围) 基片温度 激光器功率 脉冲频率 溅射时间 对于不同的溅射材料和基片,最佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。
来顶一下
返回首页
返回首页
我来回答 共有个回答
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表
赞助商链接
热门问题
靶材 | ITO靶材 | 溅射靶材 | 旋转靶材 | 镀膜靶材 | 陶瓷靶材 | 钼靶材 | 金属靶材 | 硅铝合金靶材 | 靶材绑定
E靶材网,中国靶材行业信息平台;提供靶材公司黄页登记;发布靶材产品信息。
© 2013-2018 E靶材网(原新靶材网) 版权所有 蜀ICP备16017333号-1 广告投放E-mail:954783738&qq.com(请将&改为@) QQ:954783738