JGG5高阻磁控溅射镀膜机的特点

        JGG5高阻磁控溅射镀膜机可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，该设备的主要特点有：
一、生能大，每炉可镀制装载量达10公斤以上的瓷体。
二、磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高。
三、可根据不同的电阻值及工艺要求来自行配置不同的溅射源，工艺适应性强。比如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。
四、采用独特分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。
五、选配PLC可编程控制系统，可大大提高设备自动化水平，操作更简便、性能更加可靠。
六、调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。