磁控溅射方式

磁控溅射方式：
   磁控溅射可以分为: 直流溅射、中频溅射、射频溅射
 A、直流溅射电源便宜，沉积膜层致密度较差，一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法，能量较低，溅射  靶材为导电的金属靶材。
 B、 射频溅射能量较高，溅射靶材可以是不导电的靶材，也可以为导电的靶材。
 C、中频溅射靶材可以陶瓷靶材，也可以为金属靶材。