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溅射靶材的靶料厚度对镀膜有什么影响

时间:2014-05-05 11:11:53  来源:  作者:

靶材在PVD系统中作为阴极,真空系统所产生的自由电子在电场的加速作用下,撞击Ar分子而形成Ar+阳离子,而Ar+阳离子在电场的作用高速撞击靶材(阴极),使得靶材表面的原子或原子团并以气态的形式撞出,再沉积到同在真空腔体内的基板上,形成所需的涂层或纳米薄膜。


由于它是被攻击之靶体,故简称靶材。壁厚,磁场稍弱放电电压要高些,但是几个毫米的差别不大。
氩气是工作气体不参与反应,镀出来是金属本色,就是银色。加氮气镀出来是仿金色。

磁控溅射它的靶材不是个厚片(5~6mm)吗?如果就是一般用的磁控溅射靶材,应该是没有影响,只要保证在溅射过程中不露底就成。当然什么时候露底取决于你的溅射速率。

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