金属溅射靶材
Metal sputtering target
单质金属靶材采用高纯金属材料为原料,通过熔炼、锻造等特殊工艺处理,加以热机械加工确保靶材良好的致密度,保证晶粒均匀等轴,一致性高;粉末冶金靶材(难熔金属靶材)采用高纯度粉末为原料,通过热压、烧结,热等静压工艺,再经过特殊的热机械处理及精密的机加工制造而成,确保晶粒细小,分布均匀,致密度高。
金属溅射靶材
|
类别
|
产品名称
|
分子式
|
纯度
|
产品形态
|
贵金属靶材
|
金
|
Au
|
99.99%
|
靶材
|
银
|
Ag
|
99.99%
|
靶材
|
铂
|
Pt
|
99.99%
|
靶材
|
钯
|
Pd
|
99.99%
|
靶材
|
钌
|
Ru
|
99.95%
|
靶材
|
铑
|
Rh
|
99.95%
|
靶材
|
铱
|
Ir
|
99.95%
|
靶材
|
铼
|
Re
|
99.99%
|
靶材
|
(难熔金属靶材) 粉末冶金靶材
|
钨
|
W
|
99.95%
|
靶材
|
钼
|
Mo
|
99.95%
|
靶材
|
钽
|
Ta
|
99.99%
|
靶材
|
铌
|
Nb
|
99.99%
|
靶材
|
锆
|
Zr
|
99.5%
|
靶材
|
铪
|
Hf
|
99.95%
|
靶材
|
铬
|
Cr
|
99.95%
|
靶材
|
钒
|
V
|
99.9%
|
靶材
|
|