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北京金源新科技有限公司-供应溅射靶材

时间:2016-03-30 10:59:17  来源:  作者:

 金属溅射靶材

Metal sputtering target

单质金属靶材采用高纯金属材料为原料,通过熔炼、锻造等特殊工艺处理,加以热机械加工确保靶材良好的致密度,保证晶粒均匀等轴,一致性高;粉末冶金靶材(难熔金属靶材)采用高纯度粉末为原料,通过热压、烧结,热等静压工艺,再经过特殊的热机械处理及精密的机加工制造而成,确保晶粒细小,分布均匀,致密度高。

金属溅射靶材

类别

产品名称

分子式

纯度

产品形态

贵金属靶材

Au

99.99% 

靶材

Ag

99.99%

靶材

Pt

99.99%

靶材

Pd

99.99%

靶材

Ru

99.95%

靶材

Rh

99.95%

靶材

Ir

99.95%

靶材

Re

99.99%

靶材

(难熔金属靶材)   粉末冶金靶材

W

99.95%

靶材

Mo

99.95%

靶材

Ta

99.99%

靶材

Nb

99.99%

靶材

Zr

99.5%

靶材

Hf

99.95%

靶材

Cr

99.95%

靶材

V

99.9%

靶材

 

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