磁控溅射电源的优劣对膜层的影响讨论

溅射电源的好坏对膜层有何影响？
讨论1：影响非常大。磁控溅射电源对离化率、反应磁控溅射的打火、溅射工艺稳定性影响非常大，进而导致膜层质量有很大差异。
讨论2：最主要的影响应该是溅射速率， 对起辉的参数也有影响的。
讨论3：电源不好，就做不出好的薄膜。
讨论4：中频电源和直流电源制备的膜层性能致密性差别很大，溅射速率相差也较大
讨论5：中频好，还是直流好？？？？那个制作膜层质量好
讨论6：应该是看你制造什么膜吧？

讨论7：电源是镀膜的基础啊，直流，脉冲，射频均有使用范围啊，如射频电源是制备不导电薄膜的最佳选择。
讨论8：阴极是瓶径. 没有好的阴极,好电源发挥不了作用.单就电源来讲, 没有哪一种包治白病,特点不一样.看你的主要需求是什么
讨论9：在磁控溅射中电源为气体离子提供能量去轰击靶材原子，使靶材原子沉积到基片上。电源质量好坏影响溅射速率的稳定性，膜层的均匀性，膜层的质量等等！
讨论10：电源是磁控溅射的基础
讨论11：电源绝对是镀膜中的关键。。。。。。。。
讨论12：我觉得电源和阴极要互相匹配才好