高纯铁靶，铜靶，钛靶，锌靶，镍靶，合金靶，金属靶，陶瓷靶

磁控溅射靶材
 
（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）
 
高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶Al，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si，锗靶Ge，铌靶Nb，钛钯Ti，铟靶In，银靶Ag，锡靶Sn，石墨靶C，钽靶Ta，钼靶Mo，金靶Au，铪靶Hf，锰靶Mn，锆靶Zr，镁靶Mg，锌靶Zn，铅靶Pb，铱靶Ir，钇靶Y，铈靶Ce，镧靶La，镱靶Yb，钆靶Gd，铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。
 
高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3，氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3，氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS，硫化钼靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2，二硼化钛靶TiB2，二硼化锆靶ZrB2，三氧化钨靶WO3，三氧化二铝靶Al2O3，五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN，氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化钛靶TiN，碳化硅靶SiC，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.
 
备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
 
高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In –Ga，铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se，不锈钢靶，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛 W-Ti，铁钴 Fe-Co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。
 
备注：生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

长期供应铝靶Al：高纯金属，高纯靶材，以及靶的相关产品。铝靶Al，银靶Ag，金靶Au，钴靶Co，钼靶Mo，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，钛靶Ti，锌靶Zn，镁靶Mg，铌靶Nb，锡靶Sn，铅靶Pb，铟靶In，铁靶Fe，锆靶Zr，铂靶Pt，钽靶Ta，锗靶Ge，硅靶Si，铯靶Cs，铷靶Rb，钨靶W，锰靶Mn，铪靶Hf，钆靶Gd，钐靶Sm，镝靶Dy，铈靶Ce，钇靶Y，钒靶V，镧靶La，铼靶Re，钌靶Ru，钯靶Pd，铑靶Rh，铋靶Bi，钛铝Ti-Al，铝硅Al-Si，铝铜Al-Cu，铝钛Al-Ti，银铜Ag-Cu，铝镁Al-Mg，钴铁硼Co-Fe-B，铜铟镓Cu-In-Ga，铁锰Fe-Mn，铟锡In-Sn，钴铁Co-Fe，镍钴Ni-Co，镍铁Ni-Fe，镍铬Ni-Cr，镍锆Ni-Zr，镍铝Ni-Al，镍铜Ni-Cu，镍钒Ni-V，钨钛W-Ti，锌铝Zn-Al，铝钛硼Al-Ti-B，铝钪Al-Sc，钒铝铁V-Al-Fe，铜锡Cu-Sn，锆铝Zr-Al，钒铝V-Al，硼铁B-Fe等

陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4，氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2，二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2，二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，氧化硅铪靶HfO2