金属靶材，高纯铜靶镀膜专用，无氧铜，铜背板

铜靶，铜粒，高纯铜，高纯铜粒，高纯铜靶
化学符号：Cu 
原 子 量：63.546
外观纯铜：紫红色金属 
熔    点：1083.4℃
沸    点：2567℃ 
密    度：8.92g/cm3
蒸 发 源（丝、片）：钨、钽、钼、铌 
坩    埚：Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸发温度：1017℃ 
薄膜的机械和化学性质：膜层附着不好，利用中间层Cr可增加附着力；
波长/nm   折射率n    消光系数k 反射率/%
450     0.87     2.2 58.3
500     0.88     2.42 62.5
550     0.76     2.46 66.8
600     0.19     2.98 92.6
800     0.17     4.84 97.3
1000     0.20     6.27 98.0
3000     1.22     7.10 91.2
7000     5.25     40.7 98.8
10250     11.0     60.6 98.8
应    用：保护膜，反射膜，增透膜